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真空鍍膜產(chǎn)品出現膜臟該怎么辦?
2024-06-05  閱讀

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康沃真空網(wǎng)】鍍膜產(chǎn)品的常見(jiàn)問(wèn)題,部分是鍍膜工序的本身造成的,部分是前工程遺留的問(wèn)題,鍍膜最終的品質(zhì)是整個(gè)光學(xué)零件加工的(特別是拋光、清洗)的綜合反映,對于出現鍍膜不良時(shí)必須綜合考慮,才能真正找到不良產(chǎn)生的原因,對策改善才能取得成效。

    膜臟(也稱(chēng)白壓克)

    顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內或膜外。臟可以包括:灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。(灰塵點(diǎn)和白霧單列)。

    一、灰點(diǎn)臟

    現象:鏡片膜層表面或內部有一些點(diǎn)子(不是膜料點(diǎn))有些可以擦除,有的不能擦除。并且會(huì )有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。

    產(chǎn)生原因:

    1、真空室臟,在開(kāi)始抽真空時(shí)的空氣渦流將真空室底板、護板的臟灰帶到鏡片上,形成灰點(diǎn)層。(膜內,不能擦除,會(huì )有點(diǎn)狀脫膜)

    2、鏡圈或碟片臟,有浮點(diǎn)灰塵,在離子束作用下附著(zhù)到了鏡片上形成灰點(diǎn)層。(膜內,不能擦除,會(huì )有點(diǎn)狀脫膜)

    3、鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn),上傘時(shí)沒(méi)有檢查挑選。(膜內,不能擦除,會(huì )有點(diǎn)狀脫膜)

    4、鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因,特別是當鏡片熱的時(shí)候,更容易吸附灰塵,而且難以擦除。(膜外)

    5、真空室充氣口環(huán)境臟、開(kāi)始充氣量過(guò)大、充氣過(guò)濾器臟,充氣時(shí)鏡片溫度過(guò)高也是造成鏡片膜外灰塵點(diǎn)不良的原因。(膜外)

    6、作業(yè)員人為帶來(lái)的灰塵污染。(膜內膜外)

    7、工作環(huán)境中灰塵過(guò)多。

    改善思路:杜絕灰塵源。

    改善對策:

    1、工作環(huán)境改造潔凈車(chē)間,嚴格按潔凈車(chē)間規范實(shí)施。

    2、盡可能做好環(huán)境衛生。盡量利用潔凈工作臺。

    3、真空室周期打掃,保持清潔。

    二、膜外白霧

    現象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙酮或混合液擦拭,會(huì )有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕,(又稱(chēng):可擦拭壓克)

    分析:膜外白霧的成因較為復雜,可能的成因有:

    ①、膜結構問(wèn)題:外層膜的柱狀結構松散,外層膜太粗糙;

    ②、蒸發(fā)角過(guò)大,膜結構粗糙。

    ③、溫差:鏡片出罩時(shí)內外溫差過(guò)大。

    ④、潮氣;鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣。

    ⑤、真空室內Polycold解凍時(shí)水汽過(guò)重。

    ⑥、蒸鍍中充氧不完全,膜結構不均勻。

    ⑦、膜與膜之間的應力。

    改善思路:膜外白霧成因很多,但各有些特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。

    改善對策:

    1、改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。改善鏡片出罩時(shí)的環(huán)境(干燥、清潔)

    2、降低出罩時(shí)的鏡片溫度(延長(cháng)在真空室的冷卻時(shí)間)減少溫差、降低應力。

    3、改善充氧(加大),改善膜結構。

    4、適當降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結構。

    5、離子輔助鍍膜,改善膜結構。

    6、加上polycold解凍時(shí)的小充氣閥(其功能是及時(shí)帶走水汽)。

    7、從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角。

    8、改善基片表面粗糙度。

    9、注意polycold解凍時(shí)的真空度。

    三、膜內白霧

    白霧形成在膜內,無(wú)法用擦拭方法祛除。

    可能的成因:

    ①、基片臟,附著(zhù)前工程的殘留物。

    ②、鏡片表面腐蝕污染。

    ③、膜料與膜料之間、膜料與基片之間的不匹配。

    ④、氧化物充氧不夠。

    ⑤、第一層氧化鋯膜料,可能對某些基片產(chǎn)生白暈現象。

    ⑥、基片進(jìn)罩前(洗凈后)受潮氣污染。

    ⑦、洗凈或擦拭不良,洗凈痕跡、擦拭痕跡。

    ⑧、真空室臟、水氣過(guò)重。

    ⑨、環(huán)境濕度大。

    改善思路:基片本身的問(wèn)題可能是主要的,鍍膜是盡量彌補,鍍膜本身最大的可能是膜料匹配問(wèn)題。

    改善對策:

    1、改進(jìn)膜系,第一層不用氧化鋯。

    2、盡量減少真空室開(kāi)門(mén)時(shí)間,罩與罩之間在最短的時(shí)間內做好真空室的清潔、鍍膜準備工作。

    3、真空室在更換護板、清潔后,最好能空罩抽真空烘烤一下,更換的護板等真空室部件必須干燥、干凈。

    4、改善環(huán)境。

    5、妥善保護進(jìn)罩前在傘片上的鏡片,免受污染。

    6、改善洗凈、擦拭效果。

    7、改善膜匹配(考慮第一層用Al2O3)。

    8、改善膜充氧和蒸發(fā)速率(降低)。

    9、加快前工程的流程。前工程對已加工光面的保護加強。

    10、拋光加工完成的光面,必須立即清潔干凈,不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附著(zhù)干結。